Versetzungen und inverse Pyramidendefekte in AlGaN/GaN-HEMT-Strukturen auf Si und deren Einfluss auf Material- und Bauelementeigenschaften
Language
Document Type
Issue Date
Issue Year
Authors
Editor
Publisher
ISBN
Abstract
The GaN on Si material system promises to combine the advantages of a wide bandgap semiconductor with the low manufacturing costs of Si. High Electron mobility transistors based on an AlGaN/GaN heterostructure, for example, can serve as starting point for cost-effective and at the same time very energy-efficient power switches. However, heteroepitaxial fabrication induces high material defect densities, which manifest themselves in particular in the form of dislocations and inverse pyramid defects (V-pits). The influence of these defects on devices is, however, insufficiently known and understood due to the experimentally difficult investigation. In this work, a structural and electrical characterisation methodology of dislocations and V-pits in GaN on Si was developed and systematically applied to different samples. The focus was on the direct correlation of microstructural and electrical properties while ensuring a statistical relevance of the results. It was possible to identify characteristic dislocation structures and V-pits as leakage current paths through the material and to investigate their occurrence with manufacturing parameters of the samples. It turned out that the latter play an essential role with regard to the electrical activity of dislocations and the occurrence of V-pits. In addition, the findings were examined with regard to their relevance for devices. For the first time, the direct influence of individual, electrically active dislocations in GaN on Si could be revealed. They cause a shift of the turn-on voltage of Schottky diodes to lower values, while V-pits cause a strong degradation of the critical electric field strength of the material. The work thus makes an important contribution to the understanding of the properties and role of these defects and thus to the technological optimisation of the material system.
Abstract
Das Materialsystem GaN auf Si verspricht die Verknüpfung der Vorteile eines Wide Bandgap Halbleiters mit den niedrigen Herstellungskosten von Si. So können High Electron Mobility Transistoren zum Beispiel auf Basis einer AlGaN/GaN-Heterostruktur als Ausgangspunkt kosteneffektiver und zugleich sehr energieeffizienter Leistungsschalter dienen. Die heteroepitaktische Herstellung bedingt jedoch hohe Materialdefektdichten, welche sich insbesondere in Form von Versetzungen und inversen Pyramidendefekten (V-pits) äußern. Der Einfluss dieser Defekte auf Bauelemente ist auf Grund der experimentell schwierigen Untersuchung jedoch nur sehr unzureichend bekannt und verstanden. In dieser Arbeit wurde eine strukturelle und elektrische Charakterisierungsmethodik von Versetzungen und V-pits in GaN auf Si entwickelt und systematisch auf unterschiedliche Proben angewendet. Der Fokus lag dabei auf der direkten Korrelation mikrostruktureller und elektrischer Eigenschaften bei gleichzeitiger Gewährung einer statistischen Relevanz der Ergebnisse. Dabei gelang es, charakteristische Versetzungsstrukturen und V-pits als Leckstrompfade durch das Material zu identifizieren und deren Auftreten mit Herstellungsparametern der Proben zu untersuchen. So stellte sich heraus, dass letztere eine essentielle Rolle hinsichtlich der elektrischen Aktivität von Versetzungen und des Auftretens von V-pits spielen. Zusätzlich wurden die gewonnenen Erkenntnisse bezüglich ihrer Relevanz für Bauelemente untersucht. Dabei konnte erstmalig der direkte Einfluss einzelner, elektrisch aktiver Versetzungen in GaN auf Si nachgewiesen werden. So bedingen sie eine Verschiebung der Einschaltspannung von Schottky-Dioden zu niedrigeren Werten, während V-pits eine starke Degradation der kritischen elektrischen Feldstärke des Materials nach sich ziehen. Die Arbeit leistet damit einen wichtigen Beitrag zum Verständnis der Eigenschaften und Rolle dieser Defekte und damit zur technologischen Optimierung des Materialsystems.